1000kg 15us Vakum Isıl İşlem Fırını Gaz Nitirding Endüstriyel Isıl İşlem Fırını

Wondery Özelleştirilmiş Vakumlu Gaz Nitirding Fırını Isıl İşlem Fazlası

1. İyon nitrürleme işleminin özellikleri:

İyon nitrürleme kimyasal bir ısıl işlemdir.Düşük vakumlu azotlu bir atmosferde, fırın gövdesi anot ve iş parçası katot olarak işlenecek şekilde, işlem tarafından üretilen parıltılı deşarj nitrürlemeyi yapmak için anot ve katot arasında yüzlerce voltluk bir DC voltajı uygulanır.İyon nitrürlemenin iyon nitrürleme, kızdırma deşarjlı nitrürleme, iyon bombardıman nitrürleme, plazma nitrürleme gibi birçok adı vardır. Bu iyon nitrürleme işlemini gerçekleştiren ekipmana plazma nitrürleme fırını, ısıl işlem nitrürleme fırını veya plazma iyon nitrürleme fırını denir.

2. İyon nitrürlemenin teknik özellikleri nelerdir?

2.1 İyon nitrürleme teknolojisinin benzersiz özellikleri iyon bombardımanı, püskürtme temizleme ve plazma aktivasyonudur.İyon aktivasyonu, yüksek kaliteli nitrürleme tabakasının oluşumunun temel garantisidir ve aktivasyon difüzyonu, tüm iyon nitrürleme işlemi boyunca devam eder.İyonlar, aktif iyonlar üretmek için NH3, N2 ve H2 atomlarını aktive eder ve ayrıştırır.Aynı zamanda, iş parçası yüzeyinin iyon aktivasyonu, aktive edilmiş yüzey üzerinde bir nitrür tabakası oluşturmak üzere aktifleştirilmiş yüzey ile reaksiyona giren çok sayıda mikro kusur ve aktif yüzey üretir.Bu nedenle iyon aktivasyon koşullarını kontrol etmek ve ayarlamak çok önemlidir.İyon nitrürleme fırınlarının geliştirilmesi ve iyileştirilmesi için kızdırma deşarjının bombardıman ısıtması, püskürtme reaksiyonu ve aktivasyon etkisinin incelenmesi büyük önem taşımaktadır.

2.2 İyon nitrürleme fırınları tarafından oluşturulan bileşik tabaka sürecini inceledik ve bileşik tabaka oluşum mekanizması farklı olduğu için iyon nitrürleme ve gaz nitrürleme ile üretilen bileşik tabakanın faz yapısının farklı olduğunu bulduk.38CrMoAl Steel'in iyon nitrürleme bileşik tabakası, yüzeyde yaklaşık 25 faz bulunan fazlardan, esas olarak fazlardan oluşurken, gaz nitrürleme bileşik tabakası fazlardan oluşur ve yüzey fazlar içermez.Numune önceden 4H için argon iyon püskürtme ile aktive edilirse ve daha sonra 5506h'de iyon nitrürleme yapılırsa, yüzey fazı 55'ten 45'e düşürülür, yüzey fazı 25'ten 42'ye yükseltilir ve faz, 20-13. İyon püskürtme ile aktive edilen numunelerin, yüzey bileşik tabakasındaki faz sayısını arttırdığı ve nitrürleme sırasında faz oluşumunu azalttığı görülebilir.

3.Teknik Parametreler